Patentdokumente werden im Regelfall erst 18 Monate nach der Einreichung beim jeweiligen Patentamt veröffentlicht. Dementsprechend sind fast alle Anmeldedaten der Patentdokumente in der folgenden Liste älter als 18 Monate.
Michael Patra, Johannes Ruoff
Lithografiemaske, optisches System zur Übertragung von Original Strukturabschnitten der Lithografiemaske sowie Projektionsoptik zur Abbildung eines Objektfeldes, in dem mindestens ein Original-Strukturabschnitt anordenbar ist
Optical system for transferring original structure portions of a lithography mask, projection optical unit for imaging an object field in which at least one original structure portion of the lithography mask is arrangeable
Anmeldedatum: 9. Mai 2018
Erteilungsdatum: 5. Oktober 2021
Volksrepublik China:
CN112166380A
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2019215110A1
Taiwan:
TW202001404A
Deutschland:
DE102018207277A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20210055661A1 US11137688B2
Südkorea:
KR102021008374A
Europäisches Patentamt:
EP3791230A1
Michael Patra, Markus Degünther
Beleuchtungseinrichtung für ein Projektionsbelichtungssystem
Illumination apparatus for a projection exposure system
Anmeldedatum: 31. Juli 2014
Erteilungsdatum: 1. Juni 2021
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2016016453A1
Taiwan:
TW201610599A TWI728951B
Deutschland:
DE102014215088A1 DE102014222884A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20170082929A1
Michael Patra
Optische Baugruppe zum Führen eines Ausgabestrahls eines Freie-Elektronen-Lasers
Optical assembly for guiding an output beam of a free electron laser
Anmeldedatum: 31. März 2017
Erteilungsdatum: 23. Februar 2021
Volksrepublik China:
CN110476124A
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2018177840A1
Taiwan:
TW201903531A
Deutschland:
DE102017205548A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US10928734B2 US20200019064A1
Südkorea:
KR102019135014A
Michael Patra
Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
Illumination optic for projection lithography
Anmeldedatum: 31. Januar 2018
Erteilungsdatum: 23. Februar 2021
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2019149462A1
Deutschland:
DE102018201457A1
Volksrepublik China:
CN111656245A
Vereinigte Staaten von Amerika:
US10928733B2 US20200348600A1
Michael Patra
Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente
Method for the microlithographic production of microstructured components
Anmeldedatum: 28. Oktober 2016
Erteilungsdatum: 13. Oktober 2020
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2018077594A1
Deutschland:
DE102016221261A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US10802403B2 US20190243248A1
Michael Patra
Optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage
Optical system for a projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 9. Januar 2019
Erteilungsdatum: 6. Februar 2020
Volksrepublik China:
CN111427239A
Taiwan:
TW202026703A
Deutschland:
DE102019200193B3
Japan:
JP2020112796A
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20200218164A1 US10871717B2
Südkorea:
KR102020087090A
Europäisches Patentamt:
EP3680716A1 EP3680716B1
Michael Patra
Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
Projection exposure method and projection exposure apparatus for microlithography
Anmeldedatum: 20. September 2016
Erteilungsdatum: 24. Dezember 2019
Volksrepublik China:
CN109891322A
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2018054647A1
Deutschland:
DE102016217929A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US10514611B2 US20200096877A1 US20190204756A1 US10678144B2
Südkorea:
KR102019051041A
Europäisches Patentamt:
EP3516456A1
Michael Patra, Alexander Wolf, Markus Schwab, Toralf Gruner, Joachim Hartjes
Strahlungsquellenmodul
Optical component for use in a radiation source module of a projection exposure system
Anmeldedatum: 23. Dezember 2014
Erteilungsdatum: 14. Mai 2019
Volksrepublik China:
CN107111247A
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2016102671A1 WO2016102673A1
Taiwan:
TWI687777B TW201629635A TW201626115A TWI701517B
Deutschland:
DE102014226920A1 DE102014226918A1 DE102014226921A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US10288894B2 US20170293154A1
Südkorea:
KR102017099961A
Markus Degünther, Michael Patra
Facettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
Facet mirror for an illumination optical unit for projection lithography
Anmeldedatum: 25. August 2014
Erteilungsdatum: 26. Februar 2019
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2016030243A1
Taiwan:
TWI676060B TW201614305A
Deutschland:
DE102014216801A1
Volksrepublik China:
CN106605175A
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20170176865A1 US10216091B2
Michael Patra, Markus Degünther, Paul Büttner, Willi Heintel, Henner Baitinger
Optisches Bauelement
Optical component
Anmeldedatum: 14. März 2014
Erteilungsdatum: 20. November 2018
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2015135966A1
Deutschland:
DE102014204818A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US10133183B2 US20160370707A1
Michael Patra
Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie
Illumination optical unit for EUV projection lithography
Anmeldedatum: 15. Mai 2012
Erteilungsdatum: 13. November 2018
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2013171071A1
Deutschland:
DE102012208064A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20150036115A1 US10126658B2
Markus Degünther, Michael Patra, Thomas Korb
Bündelverteilungsoptik, Beleuchtungsoptik mit einer derartigen Bündelverteilungsoptik, Beleuchtungsoptik mit einer derartigen Bündelverteilungsoptik, optisches System mit einer derartigen Beleuchtungsoptik sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen optischen System
Beam distributing optical device and associated unit, system and apparatus
Anmeldedatum: 25. Februar 2014
Erteilungsdatum: 28. August 2018
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2015128288A1
Südkorea:
KR102016126034A
Deutschland:
DE102014203348A1
Europäisches Patentamt:
EP3111269A1 EP3111269B1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US10061203B2 US20160357114A1
Stig Bieling, Martin Endres, Markus Degünther, Michael Patra, Johannes Wangler
Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektions-Lithographie
Illumination optical unit for EUV projection lithography
Anmeldedatum: 25. August 2014
Erteilungsdatum: 10. Juli 2018
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2016030248A1
Deutschland:
DE102014216802A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20170160642A1 US10018917B2
Michael Patra, Markus Degünther
Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zum Steuern einer Projektionsbelichtungsanlage
Projection exposure apparatus and method for controlling a projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 15. Juni 2012
Erteilungsdatum: 26. Juni 2018
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2013185919A1
Südkorea:
KR102015032856A
Deutschland:
DE102012210071A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20150085271A1 US10007193B2
Hans-Jürgen Dobschal, Karsten Lindig, Günter Rudolph, Ersun Kartal, Lisa Riedel, Frank Widulle, Michael Patra
Brillenglas für eine auf den Kopf eines Benutzers aufsetzbare und ein Bild erzeugende Anzeigevorrichtung und Anzeigevorrichtung mit einem solchen Brillenglas
Spectacle lens for a display device that can be fitted on the head of a user and generates an image, and display device with such a spectacle lens
Anmeldedatum: 16. April 2015
Erteilungsdatum: 5. Juni 2018
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2015158829A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20170192237A1 US9989767B2
Hans-Jürgen Dobschal, Karsten Lindig, Günter Rudolph, Lisa Riedel, Frank Widulle, Ersun Kartal, Michael Patra
Brillenglas für eine auf den Kopf eines Benutzers aufsetzbare und ein Bild erzeugende Anzeigevorrichtung und Anzeigevorrichtung mit einem solchen Brillenglas
Spectacle lens for a display device that can be fitted on the head of a user and generates an image, and display device with such a spectacle lens
Anmeldedatum: 16. April 2015
Erteilungsdatum: 5. Juni 2018
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2015158828A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US9989766B2 US20170045743A1
Michael Patra, Ralf Müller
Beleuchtungssystem für die EUV-Belichtungslithographie
Illumination system for EUV projection lithography
Anmeldedatum: 22. November 2013
Erteilungsdatum: 1. Mai 2018
Volksrepublik China:
CN105765460A CN110068990A
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2015078776A1
Deutschland:
DE102013223935A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US10310381B2 US20160252823A1 US20180224750A1 US9958783B2
Südkorea:
KR102016088421A KR102021039000A
Europäisches Patentamt:
EP3072015B1 EP3467590A1 EP3072015A1
Michael Patra
Beleuchtungsoptik sowie Beleuchtungssystem für die EUV-Projektionslithographie
Illumination optical unit and illumination system for EUV projection lithography
Anmeldedatum: 11. September 2013
Erteilungsdatum: 13. März 2018
Volksrepublik China:
CN105706003A
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2015036226A1
Deutschland:
DE102013218131A1
Japan:
JP2020122989A
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20160187784A1 US9915874B2
Südkorea:
KR102016054579A
Martin Endres, Michael Patra
Beleuchtungsoptik
Illumination optical unit
Anmeldedatum: 17. Juli 2012
Erteilungsdatum: 13. Februar 2018
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2014012929A1
Deutschland:
DE102012212453A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US9891530B2 US20150092174A1
Michael Patra
Verfahren zum Herstellen einer Maske für ein lithographisches Beleuchtungssystem
System for producing structures in a substrate
Anmeldedatum: 16. Mai 2013
Erteilungsdatum: 30. Januar 2018
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2014184292A1
Deutschland:
DE102013209093A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20160062244A1 US9880474B2
Michael Patra
Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie, Beleuchtungssystem, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Projektionsbelichtung
Illumination optical unit for euv projection lithography
Anmeldedatum: 5. April 2016
Erteilungsdatum: 28. Dezember 2017
Taiwan:
TWI625606B TW201802612A
Deutschland:
DE102016205624B4 DE102016205624A1
Volksrepublik China:
CN107272345A
Michael Patra
Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithographie
Illumination system for an EUV projection lithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 8. August 2012
Erteilungsdatum: 26. Dezember 2017
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2014023660A1
Deutschland:
DE102012214063A1
Europäisches Patentamt:
EP2883112A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US9851641B2 US20150124233A1
Volksrepublik China:
CN104541207A
Michael Patra
Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie
Illumination optical unit for EUV projection lithography
Anmeldedatum: 11. September 2013
Erteilungsdatum: 12. Dezember 2017
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2015036225A1
Südkorea:
KR102016054585A
Deutschland:
DE102013218130A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20160187786A1 US9841683B2
Michael Patra
EUV-Lichtquelle für eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Euv light source for a lighting device of a microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 26. März 2014
Erteilungsdatum: 21. November 2017
Volksrepublik China:
CN106133609A
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2015144386A1
Deutschland:
DE102014205579A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20170003597A1 US9823571B2
Südkorea:
KR102016136427A
Europäisches Patentamt:
EP3123246A1 EP3123246B1
Michael Patra, Stig Bieling, Markus Degünther, Johannes Wangler
Baugruppe für eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithografie
Assembly for a projection exposure apparatus for EUV projection lithography
Anmeldedatum: 11. Mai 2012
Erteilungsdatum: 17. Oktober 2017
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2013167409A1
Deutschland:
DE102012207866A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20150062549A1 US9791784B2
Michael Patra
Verfahren zum Zuordnen einer Pupillenfacette eines Pupillenfacettenspiegels einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage zu einer Feldfacette eines Feldfacettenspiegels der Beleuchtungsoptik
Method for assigning a pupil facet of a pupil facet mirror of an illumination optical unit of a projection exposure apparatus to a field facet of a field facet mirror of the illumination optical system
Anmeldedatum: 13. November 2012
Erteilungsdatum: 17. Oktober 2017
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2014075917A1
Deutschland:
DE102012220596A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US9791785B2 US20150198891A1
Günter Rudolph, Hans-Jürgen Dobschal, Momchil Davidkov, Eduard Schmidt, Michael Patra
Brillenglas für eine auf den Kopf eines Benutzers aufsetzbare und ein Bild erzeugende Anzeigevorrichtung sowie Anzeigevorrichtung mit einem solchen Brillenglas
Spectacle lens for an image-generating display device to be placed on the head of a user and display device comprising such a spectacle lens
Anmeldedatum: 21. Juni 2016
Erteilungsdatum: 28. September 2017
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2017220474A1
Deutschland:
DE102016111341B3
Axel Scholz, Michael Patra, Frank Schlesener, Manfred Maul, Wolfgang Emer, Stefanie Hilt
Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie
Illumination optical unit for projection lithography
Anmeldedatum: 10. Juli 2013
Erteilungsdatum: 5. September 2017
Südkorea:
KR102015007264A
Deutschland:
DE102013213545A1
Japan:
JP2015038975A
Europäisches Patentamt:
EP2824512A2 EP2824512A3 EP2824512B1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20150015862A1 US9753375B2
Michael Patra, Markus Degünther
Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie sowie optisches System mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
Illumination optics for extreme UV projection lithography to guide illuminating light to lighting field, has channel guiding light sub beams, where difference between run times of sub beams is greater than coherence duration of light
Anmeldedatum: 9. März 2012
Erteilungsdatum: 9. Mai 2017
Volksrepublik China:
CN104246617A
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2013131834A1
Deutschland:
DE102012203716A1 DE102012218076A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20140368803A1 US9645501B2
Südkorea:
KR102014141647A
Europäisches Patentamt:
EP2823360A1
Michael Patra
Method of operating a microlithographic apparatus
Anmeldedatum: 8. Oktober 2012
Erteilungsdatum: 4. April 2017
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2014056512A1
Südkorea:
KR102015064062A
Vereinigte Staaten von Amerika:
US9612540B2 US20150168849A1
Michael Patra
Method for designing an illumination optics and illumination optics
Anmeldedatum: 25. Juni 2012
Erteilungsdatum: 1. April 2017
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2014000763A1
Taiwan:
TW201405169A TWI576613B
Frank Schlesener, Ingo Sänger, Olaf Dittmann, Akxel Göhnermeier, Alexandra Pazidis, Thomas Schicketanz, Michael Patra, Markus Degünther
Method of lithographically transferring a pattern on a light sensitive surface and illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 23. Juni 2015
Erteilungsdatum: 28. Februar 2017
Vereinigte Staaten von Amerika: US9581910B2 US20150301455A1
Johannes Wangler, Johannes Eisenmenger, Markus Degünther, Michael Patra
Monitorsystem zum Bestimmen von Orientierungen von Spiegelelementen und EUV-Lithographiesystem
Monitor system for determining orientations of mirror elements and EUV lithography system
Anmeldedatum: 5. Oktober 2012
Erteilungsdatum: 7. Februar 2017
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2014053248A1
Deutschland:
DE102012218221A1
Europäisches Patentamt:
EP2904454A1 EP2904454B1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US9563129B2 US20150198894A1
Volksrepublik China:
CN104769501A
Michael Patra, Markus Degünther
Facettenspiegel für eine Projektionsbelichtungsanlage
Facet mirror for a projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 23. September 2013
Erteilungsdatum: 21. Dezember 2016
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2015040160A1
Taiwan:
TWI563347B TW201527893A
Deutschland:
DE102013219057A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US9823577B2 US20160170308A1
Michael Patra, Markus Degünther
Maske und Scanning-projektions-belichtungsverfahren für die Mikrolithographie
Mask for microlithography and scanning projection exposure method utilizing the mask
Anmeldedatum: 28. Dezember 2011
Erteilungsdatum: 23. August 2016
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2013097897A1
Volksrepublik China:
CN104136998A
Vereinigte Staaten von Amerika:
US9423686B2 US20140377692A1
Europäisches Patentamt:
EP2798402A1 EP2798402B1
Michael Patra, Markus Degünther, Michael Layh
Beleuchtungsoptik für die Mikro-Lithografie sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
Illumination optical system for microlithography and projection exposure system with an illumination optical system of this type
Anmeldedatum: 15. Juni 2010
Erteilungsdatum: 21. Juni 2016
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2011157601A2 WO2011157601A3
Taiwan:
TW201219987A TWI539240B
Deutschland:
DE102010030089A1
Europäisches Patentamt:
EP2583141B1 EP2583141A2
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20130077076A1 US9933704B2
Michael Patra
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 27. Oktober 2012
Erteilungsdatum: 1. Mai 2016
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2014063719A1
Taiwan:
TW201423284A TWI531871B
Volksrepublik China:
CN104718499A
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20150185622A1 US9671699B2
Südkorea:
KR102015053995A
Michael Patra
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 8. Oktober 2012
Erteilungsdatum: 16. Februar 2016
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2014056513A1
Taiwan:
TW201423282A TWI536122B
Vereinigte Staaten von Amerika:
US9261695B2 US20150070671A1
Südkorea:
KR102014080457A
Michael Patra, Markus Schwab
Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 30. August 2010
Erteilungsdatum: 15. Dezember 2015
Volksrepublik China:
CN103097955A
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2012028158A1
Taiwan:
TW201222161A TWI544282B
Vereinigte Staaten von Amerika:
US9213244B2 US9678438B2 US20130114060A1 US20160070176A1
Südkorea:
KR102013060281A
Europäisches Patentamt:
EP2649493A1
Michael Patra
EUV-Lichtquelle
EUV light source
Anmeldedatum: 23. Juli 2012
Erteilungsdatum: 13. Oktober 2015
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2014016139A1
Deutschland:
DE102012212830A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20150137012A1 US9161426B2
Michael Patra, Markus Degünther
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 28. Februar 2011
Erteilungsdatum: 1. Oktober 2015
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2012116710A1
Taiwan:
TW201248335A TWI502285B
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20130308115A1 US9280055B2
Südkorea:
KR102014021549A
Michael Patra
Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie
Illumination optical unit for EUV projection lithography
Anmeldedatum: 19. März 2012
Erteilungsdatum: 13. August 2015
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2013139635A1
Deutschland:
DE102012204273A1 DE102012204273B4
Japan:
JP2018101150A
Vereinigte Staaten von Amerika:
US9612537B2 US20140362361A1 US20160154316A1 US9280061B2
Michael Patra
Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie
Illumination optical unit for projection lithography
Anmeldedatum: 25. Mai 2011
Erteilungsdatum: 13. August 2015
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2012160061A1
Taiwan:
TW201303525A
Deutschland:
DE102011076436A1 DE102011076436B4
Michael Patra, Johannes Eisenmenger, Markus Schwab
Optisches System für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optical system for a microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 24. Juli 2013
Erteilungsdatum: 16. Juli 2015
Deutschland:
DE102013214459A1 DE102013214459B4
Japan:
JP2015043418A
Europäisches Patentamt:
EP2829917B1 EP2829917A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20150029477A1 US9535331B2
Michael Patra, Stig Bieling, Markus Degünther, Frank Schlesener, Markus Schwab
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 28. Dezember 2010
Erteilungsdatum: 22. April 2015
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2012089224A1
Taiwan:
TWI557515B TW201241576A
Volksrepublik China:
CN102859440A CN102859440B
Vereinigte Staaten von Amerika:
US9983483B2 US9477157B2 US20130057844A1 US20170038691A1 US9046786B2 US20150234291A1
Südkorea:
KR102013012138A
Michael Patra
Beleuchtungsoptik für die lithografische Projektionsbelichtung
Illumination optic unit for use in lithographic projection exposure system, has pupil facets applied with actual illumination intensity if intensity equals to zero during location of facets outside pupil region and edge section
Anmeldedatum: 17. Juni 2013
Erteilungsdatum: 20. November 2014
Deutschland: DE102013211268A1 DE102013211268B4
Markus Degünther, Michael Patra, András Major
Microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 13. März 2009
Erteilungsdatum: 7. Oktober 2014
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2010102649A1
Taiwan:
TWI497221B TW201100971A
Volksrepublik China:
CN102349026A
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20120002185A1 US8854604B2
Michael Patra
Verfahren zum Einstellen einer Beleuchtungsgeometrie für eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie
Method for setting an illumination geometry for an illumination optical unit for EUV projection lithography
Anmeldedatum: 30. Januar 2012
Erteilungsdatum: 20. August 2013
Südkorea:
KR102013088071A
Deutschland:
DE102012201235B4 DE102012201235A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20130194559A1 US8514372B1
Michael Patra
Belichtungsvorrichtung für mikrolithografische Projektion und Verfahren zur Messung eines Parameters einer optischen Fläche darin
Microlithographic projection exposure apparatus and method of measuring a parameter related to an optical surface contained therein
Anmeldedatum: 17. Juli 2009
Erteilungsdatum: 5. Juni 2013
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2011006522A1
Südkorea:
KR102012037995A
Europäisches Patentamt:
EP2454636B1 EP2454636A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US8593645B2 US20120105865A1
Volksrepublik China:
CN102472974A CN102472974B
Michael Layh, Markus Degünther, Michael Patra, Johannes Wangler, Manfred Maul, Damian Fiolka, Gundula Weiß
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Microlithographic projection exposure apparatus having a multi-mirror array with temporal stabilisation
Anmeldedatum: 12. Dezember 2008
Erteilungsdatum: 1. Mai 2013
Volksrepublik China:
CN101946212B CN101946212A CN103558738A
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2009080279A1
Taiwan:
TWI450049B TW200935187A
Deutschland:
DE102008054582A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20150177623A1 US8891057B2 US20100283984A1 US20100283985A1 US10146135B2 US8724086B2 US20140211188A1
Südkorea:
KR102015082662A KR102010107014A
Europäisches Patentamt:
EP2238515A1 EP2238515B1
Michael Patra
Projektionsbelichtungsverfahren, Projektionsbelichtungsanlage, Laserstrahlungsquelle und Bandbreiten-Einengungsmodul für eine Laserstrahlungsquelle
Projection exposure method, projection exposure apparatus, laser radiation source and bandwidth narrowing module for a laser radiation source
Anmeldedatum: 17. Februar 2009
Erteilungsdatum: 23. Januar 2013
Volksrepublik China:
CN102317868B CN102317868A
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2010094399A1
Deutschland:
DE102009010560A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20110304837A1 US8896816B2
Südkorea:
KR102011126705A
Europäisches Patentamt:
EP2399170A1 EP2399170B1
Michael Patra
Optisches Rasterelement, optischer Integrator und Beleuchtungssystem eines mikrolithografischen Projektionsbelichtungsgerätes
Optical raster element, optical integrator and illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 9. Februar 2010
Erteilungsdatum: 2. Januar 2013
Südkorea:
KR102011093663A
Japan:
JP2011166158A
Europäisches Patentamt:
EP2354853B1 EP2354853A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20110194090A1 US8724080B2
Stefan Xalter, Yim-Bun Patrick Kwan, András Major, Manfred Maul, Johannes Eisenmenger, Damian Fiolka, Jan Horn, Markus Degünther, Florian Bach, Michael Patra, Johannes Wangler, Michael Layh
Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung von Mehrfachspiegelanordnungen, optische Anordnung mit einer derartigen Vorrichtung sowie mit einer zweiten Mehrfachspiegelanordnung zum Ein- und Ausschalten einer ersten Mehrfachspiegelanordnung sowie Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Vorrichtung
Method and device for monitoring multiple mirror arrays in an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 6. Februar 2008
Erteilungsdatum: 29. August 2012
Volksrepublik China:
CN103345128A CN101636696B CN101636696A
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2008095695A2 WO2008095695A3
Taiwan:
TW200900673A TWI444606B
Deutschland:
DE102008040742A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20180246415A1 US20120293784A1 US20150300807A1 US9239229B2 US9897925B2 US9013684B2 US9019475B2 US20160266502A1 US20140226141A1 US20100039629A1 US9001309B2 US8339577B2
Südkorea:
KR102014054461A KR102009116731A
Europäisches Patentamt:
EP2115535B9 EP2115535B1 EP2511765A3 EP2511765A2 EP2115535A2 EP2511765B1
Michael Patra, Martin Meier
Polarisationsaktuator
Polarization actuator
Anmeldedatum: 26. Oktober 2010
Erteilungsdatum: 5. April 2012
Südkorea:
KR102012043650A
Deutschland:
DE102010042901B3
Japan:
JP2012104813A
Vereinigte Staaten von Amerika:
US8373847B2 US20120099093A1
Erich Schubert, Alexander Kohl, Gerhard-Wilhelm Ziegler, Michael Patra, Markus Degünther, Michael Layh
Beleuchtungssystem zum Beleuchten einer Maske in einer mikrolithographischen Belichtungsvorrichtung
Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus
Anmeldedatum: 13. Dezember 2008
Erteilungsdatum: 2. November 2011
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2009080231A1
Europäisches Patentamt:
EP2388649B1 EP2238513B1 EP2238513A1 EP2388650A1 EP2388649A1 EP2388650B1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US9977333B2 US20180335702A1 US8467031B2 US20130250264A1 US9310694B2 US20170351183A1 US20160187789A1 US9599904B2 US10191382B2 US20100265482A1
Österreich:
AT532105E
Thomas Fischer, Hubert Holderer, Michael Patra, Lars Wischmeier
Mess-Beleuchtungsoptik zur Führung von Beleuchtungslicht in ein Objektfeld einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Lithografie
Anmeldedatum: 23. Juni 2020
Deutschland: DE102020207785A1
Thomas Fischer, Hubert Holderer, Michael Patra, Lars Wischmeier
Mess-Beleuchtungsoptik zur Führung von Beleuchtungslicht in ein Objektfeld einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Lithografie
Measuring illumination optical unit for guiding illumination light into an object field of a projection exposure system for EUV lithography
Anmeldedatum: 28. April 2020
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2020221763A1
Deutschland:
DE102020208416A1
Michael Patra, Hans-Jürgen Rostalski
Oberflächenprofil-Messeinrichtung zur Vermessung der Spiegel einer abbildenden Optik
Anmeldedatum: 10. Dezember 2019
Deutschland: DE102019219209A1
Erik Loopstra, Michael Patra, Michael Totzeck
Herstellungsvorrichtung zum Additiven Herstellen und Verfahren zum Additiven Herstellen
Anmeldedatum: 22. November 2019
Deutschland: DE102019131635A1
Michael Patra
Optisches Beleuchtungssystem zur Führung von EUV-Strahlung
Optical illumination system for guiding EUV radiation
Anmeldedatum: 9. August 2019
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2021028132A1
Deutschland:
DE102019212017A1
Michael Patra
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie und Verfahren zur Montage einer Projektionsbelichtungsanlage
Anmeldedatum: 23. Juli 2019
Deutschland: DE102019210896A1
Michael Patra
Strahlungsquellen-Modul
Anmeldedatum: 13. Mai 2019
Deutschland: DE102019206869A1 DE102020201368A1
Sascha Migura, Michael Patra
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
Imaging optical unit for imaging an object field into an image field, and projection exposure apparatus comprising such an imaging optical unit
Anmeldedatum: 11. April 2019
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2020207768A1 WO2020207768A8
Taiwan:
TW202043839A
Deutschland:
DE102019205271A1
Susanne Beder, Michael Patra, Hans-Jürgen Rostalski, Johannes Ruoff, Alexander Wolf
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projek-tionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
Anmeldedatum: 28. Februar 2019
Deutschland: DE102019202759A1
Valentin Jonatan Bolsinger, Christof Jalics, Holger Kierey, Wolfgang Merkel, Jonas Metz, Michael Patra, Fabian Schuster, Ingrid Schuster, Ulrich Vogl
EUV-Kollektor zum Einsatz in einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage
Anmeldedatum: 21. Januar 2019
Deutschland: DE102019200698A1
Michael Patra
Projektionsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage
Anmeldedatum: 12. September 2018
Deutschland: DE102018215505A1
Michael Patra, Thomas Schicketanz
Optische Anordnung und EUV-Lithographievorrichtung damit
Anmeldedatum: 28. August 2018
Deutschland: DE102018214559A1
Michael Patra, Markus Schwab
Pupillenfacettenspiegel
Anmeldedatum: 23. August 2018
Deutschland: DE102018214223A1
Michael Patra
Blende zur Anordnung in einer Engstelle eines EUV-Beleuchtungsbündels
Stop for arrangement in a constriction of an EUV illumination beam
Anmeldedatum: 4. Juni 2018
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2019233741A1
Südkorea:
KR102021018347A
Deutschland:
DE102018208710A1
Europäisches Patentamt:
EP3803512A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20210084741A1
Michael Patra
Facettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
Facet mirror for an illumination optical unit for projection lithography
Anmeldedatum: 14. Mai 2018
Südkorea:
KR102019130498A
Deutschland:
DE102018207410A1
Martin Endres, Michael Patra
Spiegel
Anmeldedatum: 8. Mai 2018
Deutschland: DE102018219860A1 DE102018207107A1
Johannes Eisenmenger, Thomas Fischer, Martin Meier, Michael Patra, Johannes Zellner
Feldfacettenspiegel
Anmeldedatum: 8. Mai 2018
Deutschland: DE102018207103A1
DAVYDENKO VLADIMIR, DE, Jan Horn, Michael Patra, ZOTT ANDY, DE
Vorrichtung und Verfahren zum Ermitteln eines Abstandes eines bewegten Objekts
Device and method for determining a distance to a moving object
Anmeldedatum: 5. Februar 2018
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2019149725A1
Deutschland:
DE102018201735A1
Michael Patra
Räumlicher Lichtmodulator sowie Verfahren zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente
Anmeldedatum: 1. Februar 2018
Deutschland: DE102018201532A1
Michael Patra
Euv-beleuchtungssystem und Verfahren zum Erzeugen einer Beleuchtungsstrahlung
Anmeldedatum: 29. November 2017
Deutschland: DE102017221420A1
Michael Patra
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 30. Juni 2017
Japan: JP2017182094A
Michael Patra
Baugruppe, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Anmeldedatum: 19. Juni 2017
Deutschland: DE102017210206A1
Michael Patra, Stig Bieling
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Anmeldedatum: 30. Januar 2017
Deutschland: DE102017201373A1
Michael Patra
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Anmeldedatum: 2. Mai 2016
Deutschland: DE102016207487A1
Michael Patra
Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage
Anmeldedatum: 23. Februar 2016
Deutschland: DE102016202736A1
Michael Patra
Optisches Bauelement
Anmeldedatum: 27. Oktober 2015
Deutschland: DE102015220955A1 DE102016211732A1
Michael Patra
Brillenglas für Abbildungsoptik zum Erzeugen eines virtuellen Bildes und Datenbrille
Anmeldedatum: 15. Oktober 2015
Deutschland: DE102015117557A1
Michael Patra
Brillenglas für eine auf den Kopf eines Benutzers aufsetzbare Anzeigevorrichtung
Anmeldedatum: 9. September 2015
Deutschland: DE102015115144A1
Michael Patra
Optisches System
Optical system
Anmeldedatum: 10. August 2015
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2017025376A1
Deutschland:
DE102015215216A1
Michael Patra
Strahlführungsvorrichtung
Method for controlling a beam guiding device, and beam guiding device
Anmeldedatum: 9. Juli 2015
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2017005912A2 WO2017005912A3
Südkorea:
KR102018028487A
Deutschland:
DE102015212878A1
Volksrepublik China:
CN107924143A
Michael Patra
Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 1. Juni 2015
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2016192959A1
Südkorea:
KR102018013933A
Deutschland:
DE102015210041A1
Volksrepublik China:
CN107810445A
Michael Patra
Verfahren und Vorrichtung zur Dateneinspiegelung
Method and device for data projection
Anmeldedatum: 7. April 2015
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2016162187A1
Deutschland:
DE102015105250A1
Michael Patra
Vorrichtung zur Dateneinspiegelung
Device for data reflection
Anmeldedatum: 7. April 2015
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2016162167A1
Deutschland:
DE102015105233A1
Michael Patra
Verfahren und Vorrichtung zum Kühlen einer Komponente einer Projektionsbelichtungsanlage
Anmeldedatum: 12. Januar 2015
Deutschland: DE102015200281A1
Michael Patra
Strahlungsquellenmodul
Radiation source module
Anmeldedatum: 17. Oktober 2014
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2016058826A1
Taiwan:
TW201624145A
Deutschland:
DE102014221173A1
Michael Patra, Stig Bieling, Markus Degünther, Ralf Müller
Beleuchtungsoptik für ein Projektionsbelichtungssystem
Illumination optical unit for a projection exposure system
Anmeldedatum: 17. Oktober 2014
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2016058851A1
Taiwan:
TW201616245A
Deutschland:
DE102014221175A1
Volksrepublik China:
CN106716254A
Südkorea:
KR102017074868A
Michael Patra, Bernhard Sitek
Anordnung einer Energiesensor-Einrichtung
Anmeldedatum: 29. September 2014
Deutschland: DE102014219649A1
Michael Patra
Verfahren zum Zuordnen einer zweiten Facette eines im Strahlengang zweiten facettierten Elements einer Beleuchtungsoptik
Anmeldedatum: 3. September 2014
Deutschland: DE102014217608A1
Michael Patra
EUV-Lithographieanlage mit Freie-Elektronen-Laser-Einheit
Extreme UV lithography system used for performing miniaturization of e.g. semiconductor wafers, has electron switch that is arranged between accelerator unit and undulator unit, for directing electron beam alternately to undulators
Anmeldedatum: 21. Juni 2013
Deutschland: DE102013211830A1
Michael Patra
Verfahren zur Beleuchtung eines Bildfeldes
Method for illuminating an image field
Anmeldedatum: 5. März 2013
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2014135448A1
Deutschland:
DE102013203689A1
Michael Patra
Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Lighting system for microlithographic projection exposure system, has optical element directing light beam on another optical element such that main beam extends from non-zero angle to optical axis of illumination system
Anmeldedatum: 5. März 2013
Deutschland: DE102013203751A1
Frank Schlesener, Ingo Sänger, Olaf Dittmann, Aksel Göhnermeier, Alexandra Pazidis, Thomas Schicketanz, Michael Patra, Markus Degünther
Method of lithographically transferring a pattern on a light sensitive surface and illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 17. Januar 2013
Weltpatentorganisation (WIPO): WO2014111098A1
Michael Patra
Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Illumination device for use in microlithographic projection exposure system, has polarization influencing optical element attached to reflecting side surface so that state of polarization of light beam on beam path is differently influenced
Anmeldedatum: 9. August 2012
Deutschland: DE102012214198A1
Michael Patra
Mikrolithographisches Belichtungsverfahren, sowie mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Microlithographic exposure method, and microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 8. August 2012
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2014023619A1
Deutschland:
DE102012214052A1
Michael Patra, Stig Bieling
Spiegel-Austauscharray
Mirror exchange array of set structure for illumination optics used in e.g. scanner for performing microlithography, has single mirrors of mirror exchange array unit that are set with high reflecting coating portion
Anmeldedatum: 7. August 2012
Deutschland: DE102012213937A1
Michael Patra, Bernhard Kneer, Jörg Zimmermann
Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie
Illumination optical unit for projection exposure system, has pupil facet mirror that is provided such that number of pupil facets in inner group is set different from number of pupil facets in outer group
Anmeldedatum: 30. Juli 2012
Deutschland: DE102012213368A1
Michael Patra, Markus Degünther
Vorrichtung zur Vermessung eines abbildenden optischen Systems
Measuring device for measuring imaging optical system i.e. projection lens, for forming object field in image plane, has detector arranged in front of optical system, and reference mark arranged behind optical system
Anmeldedatum: 19. Juli 2012
Deutschland: DE102012212662A1
Michael Patra, Stig Bieling, Markus Degünther, Martin Endres, Johannes Wangler, Udo Dinger, Wolfgang Singer
Optisches Bauelement
Optical component for use in illumination optics of illumination system of projection exposure system for guiding light radiation to object field, has individual mirrors with front side that forms individual mirror reflecting surface
Anmeldedatum: 18. Juni 2012
Deutschland: DE102012210174A1
Michael Patra, Manfred Maul, Markus Degünther
Beleuchtungssystem für die EUV- Projektionslithografie
Lighting system for extreme ultraviolet-projection lithography in projection exposure apparatus, has optical illumination angel-variation component is provided in beam path of illumination light
Anmeldedatum: 15. Mai 2012
Deutschland: DE102012208096A1
Michael Patra
Beleuchtungsoptik für die Mikrolithographie
Illumination lens for lighting system of scanner to manufacture e.g. memory chips, has optical component for guiding light to field, where lens is formed such that beam tufts are overlaid for coinciding edges of beam tufts in sections
Anmeldedatum: 14. Mai 2012
Deutschland: DE102012208016A1
Michael Patra
Beleuchtungsoptik
Illumination optics of optical system used in scanner for performing microlithography, has lighting channels whose total intensity in region of optical field is adapted by tilting specific number of individual mirrors to preset value
Anmeldedatum: 8. Mai 2012
Deutschland: DE102012207572A1
Michael Patra, Johannes Eisenmenger
Facettenspiegel
Facet mirror e.g. field facet mirror, for channel-wise reflection of light radiation in UV micro-lithographic projection exposure system, has displaceable micro mirrors whose facet reflecting surfaces exhibit specific area
Anmeldedatum: 7. Mai 2012
Deutschland: DE102012207511A1
Michael Patra, Markus Degünther
Verfahren zur Herstellung einer optischen Baugruppe
Method for manufacturing e.g. field faucet mirror of illumination optical device, involves arranging structural element with broken mirror element so that one of defective mirror elements is provided out of range of reflection surfaces
Anmeldedatum: 27. April 2012
Deutschland: DE102012207048A1
Ingo Sänger, Michael Patra, Christoph Hennerkes, Bastian Trauter
Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zur Justage eines optischen Systems
Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus, and method for adjusting an optical system
Anmeldedatum: 16. April 2012
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2013156251A1
Deutschland:
DE102012206148A1
Michael Patra, Martin Endres, Markus Degünther, Johannes Wangler
Kollektor
Collector for microlithography projection exposure apparatus used during manufacture of micro-or nano-structured component, has movable portion that is moved to adjust spatial extent of radiation in region of intermediate focus
Anmeldedatum: 16. März 2012
Deutschland: DE102012204142A1
Michael Patra
Wärme ableitender und mechanisch stabilisierter Filter
Filter i.e. dead mirror blocking filter, for filtering certain proportions of work light of light beam assembly, has fields arranged next to each other, and lattice arrangement defining and surrounding fields and formed in irregular manner
Anmeldedatum: 8. November 2011
Deutschland: DE102011085949A1
Michael Patra
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zum Betreiben einersolchen
Microlithographic projection exposure system i.e. vacuum projection exposure system, operating method, involves changing bandwidth of projection light produced by light sources of system while exposing regions on photosensitive layer
Anmeldedatum: 12. August 2011
Deutschland: DE102011080919A1
Michael Patra
Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Illumination device for use in micro-lithographic projection lighting system for illuminating reticule, has depolarizer arranged around rotational axis and partially causing effective depolarization of linearly polarized light
Anmeldedatum: 8. August 2011
Deutschland: DE102011080614A1
Michael Patra
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren
Micro-lithographic projection exposure system for manufacturing e.g. integrated switching circuits, has optical arrangement configured in such manner that modification of maximum value is minimized in comparison with analog system
Anmeldedatum: 21. Juli 2011
Deutschland: DE102011079548A1
Michael Patra
Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie
Illumination lens for use in projection illumination system for extreme UV-projection lithography for manufacturing e.g. semiconductor chip, has first selection facet comprising larger surface than surfaces of second and third facets
Anmeldedatum: 30. Mai 2011
Deutschland: DE102011076658A1
Michael Patra
Beleuchtungseinrichtung für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie mikrolithographisches Belichtungsverfahren
Illumination device for use in microlithographic projection exposure system for illuminating mask i.e. reticle, for manufacturing e.g. LCD, has optical element arranged between mirror assembly and pupil plane of illumination device
Anmeldedatum: 25. Mai 2011
Deutschland: DE102011076434A1
Michael Patra, Markus Degünther, Andreas Dorsel
Verfahren und Vorrichtung zum Belichten einer lichtempfindlichen Schicht
Method for exposing photosensitive layer for projection exposure system, involves supplementary-exposing photosensitive layer with supplementary exposure radiation with wavelength for producing intensity distribution on photosensitive layer
Anmeldedatum: 28. März 2011
Deutschland: DE102011006189A1
Michael Patra
Verfahren zum Betreiben einer Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Method for operating lighting device of microlithographic projection exposure system utilized for manufacturing e.g. LCD, involves carrying out illumination of area of optical element with short duration than illumination of another area
Anmeldedatum: 14. März 2011
Deutschland: DE102011005483A1
Markus Schwab, Michael Patra
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
Anmeldedatum: 14. September 2010
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2012034571A1
Taiwan:
TW201234120A
Michael Patra, Olaf Dittmann, Marc Kirch, Martin Endres, Markus Walter, Stig Bieling, Sebastian Dörn
Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie
Illumination optical system for EUV projection lithography
Anmeldedatum: 8. Juni 2010
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2011154244A1
Taiwan:
TW201214064A
Deutschland:
DE102010029765A1
Michael Patra, Markus Schwab
Wabenkondensor, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Honeycomb condenser, particularly for a microlithographic projection exposure system
Anmeldedatum: 14. Juli 2009
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2011006710A3 WO2011006710A2
Deutschland:
DE102009032939A1
Michael Patra, Markus Degünther, Michael Layh, Johannes Wangler, Manfred Maul
Beleuchtungsoptik für die Projektions-Mikrolithografie sowie Mess- und Überwachungsverfahren für eine derartige Beleuchtungsoptik
Illumination optics for use in microlithography projection illumination system, has place and time-dissolved detection device arranged such that device detects light intensity distribution based on light intensity distribution in plane
Anmeldedatum: 19. November 2007
Weltpatentorganisation (WIPO):
WO2008061681A3 WO2008061681A2
Deutschland:
DE102007055408A1
Vereinigte Staaten von Amerika:
US20090262324A1